ਫਿਲਟਰੇਸ਼ਨ ਤੱਤ ਲਈ ਸਫਾਈ ਉਪਕਰਣ

ਸੰਖੇਪ ਵਿੱਚ, ਫਿਲਟਰ ਤੱਤ ਦੀ ਸਫਾਈ ਫਿਲਟਰਿੰਗ ਪ੍ਰਭਾਵ ਅਤੇ ਸਾਜ਼ੋ-ਸਾਮਾਨ ਦੀ ਕਾਰਗੁਜ਼ਾਰੀ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਇੱਕ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਕਦਮ ਹੈ, ਜੋ ਫਿਲਟਰ ਤੱਤ ਦੇ ਆਮ ਸੰਚਾਲਨ ਨੂੰ ਬਣਾਈ ਰੱਖਣ ਅਤੇ ਇਸਦੀ ਸੇਵਾ ਜੀਵਨ ਨੂੰ ਲੰਮਾ ਕਰਨ ਵਿੱਚ ਮਦਦ ਕਰਦਾ ਹੈ।

ਪੌਲੀਮਰ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਦੇ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ, ਸਫਾਈ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਕੈਲਸੀਨੇਸ਼ਨ, ਭੰਗ, ਆਕਸੀਕਰਨ, ਜਾਂ ਹਾਈਡੋਲਿਸਿਸ ਦੁਆਰਾ ਚਿਪਕਾਏ ਹੋਏ ਪਿਘਲਣ ਵਾਲੇ ਪੋਲੀਮਰ ਨੂੰ ਹਟਾਉਣ ਲਈ ਭੌਤਿਕ ਅਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਤਰੀਕਿਆਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਜਿਸ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਪਾਣੀ ਦੀ ਧੋਣ, ਖਾਰੀ ਧੋਣ, ਐਸਿਡ ਧੋਣ ਅਤੇ ਅਲਟਰਾਸੋਨਿਕ ਸਫਾਈ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।ਇਸ ਅਨੁਸਾਰ ਅਸੀਂ ਸਫਾਈ ਉਪਕਰਣ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਾਂ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਹਾਈਡ੍ਰੋਲਿਸਿਸ ਕਲੀਨਿੰਗ ਸਿਸਟਮ, ਵੈਕਿਊਮ ਕਲੀਨਿੰਗ ਫਰਨੇਸ, ਟੀਈਜੀ ਕਲੀਨਿੰਗ ਫਰਨੇਸ, ਅਲਟਰਾਸੋਨਿਕ ਕਲੀਨਰ ਅਤੇ ਕੁਝ ਸਹਾਇਕ ਉਪਕਰਣ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਅਲਕਲੀ ਸਫਾਈ ਟੈਂਕ, ਵਾਸ਼ਿੰਗ ਸਫਾਈ ਟੈਂਕ, ਬਬਲ ਟੈਸਟਰ।

ਹਾਈਡ੍ਰੋਲਿਸਿਸ ਸਫਾਈ ਸਿਸਟਮਇੱਕ ਸਫਾਈ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦਾ ਹਵਾਲਾ ਦਿੰਦਾ ਹੈ ਜੋ ਸਤ੍ਹਾ ਜਾਂ ਉਪਕਰਣਾਂ ਤੋਂ ਪੌਲੀਮਰ ਨੂੰ ਤੋੜਨ ਅਤੇ ਹਟਾਉਣ ਲਈ ਹਾਈਡੋਲਿਸਿਸ ਦੀ ਰਸਾਇਣਕ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੀ ਹੈ।ਇਹ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਉਦਯੋਗਿਕ ਸੈਟਿੰਗਾਂ ਵਿੱਚ ਵਰਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਹੀਟ ਐਕਸਚੇਂਜਰਾਂ, ਬਾਇਲਰਾਂ, ਕੰਡੈਂਸਰਾਂ, ਫਿਲਟਰੇਸ਼ਨ ਐਲੀਮੈਂਟਸ ਅਤੇ ਹੋਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀ ਸਫ਼ਾਈ ਵਿੱਚ ਜੋ ਡਿਪਾਜ਼ਿਟ ਇਕੱਠੇ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।

ਦਾ ਸਿਧਾਂਤVacuum ਸਫਾਈ ਭੱਠੀਇਸ ਸੰਪਤੀ 'ਤੇ ਅਧਾਰਤ ਹੈ ਕਿ ਹਵਾ ਤੋਂ ਅਲੱਗ ਕੀਤੇ ਸਿੰਥੈਟਿਕ ਫਾਈਬਰ ਦੇ ਉੱਚ ਅਣੂ ਨੂੰ ਪਿਘਲਾ ਦਿੱਤਾ ਜਾਣਾ ਹੈ ਜਦੋਂ ਤਾਪਮਾਨ 300˚C ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਫਿਰ ਪਿਘਲਣ ਵਾਲੇ ਪੋਲੀਮਰ ਕੂੜਾ ਇਕੱਠਾ ਕਰਨ ਵਾਲੇ ਟੈਂਕ ਵਿੱਚ ਵਹਿ ਜਾਂਦੇ ਹਨ;ਜਦੋਂ ਤਾਪਮਾਨ 350˚C ਤੱਕ ਵਧਦਾ ਹੈ, 500˚C ਤੱਕ, ਪੌਲੀਮਰ ਭੱਠੀ ਵਿੱਚੋਂ ਬਾਹਰ ਨਿਕਲਣਾ ਸ਼ੁਰੂ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।

TEG ਸਫਾਈ ਭੱਠੀ: ਇਹ ਇਸ ਸਿਧਾਂਤ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦਾ ਹੈ ਕਿ ਸਫ਼ਾਈ ਦੇ ਉਦੇਸ਼ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਪੋਲੀਐਸਟਰ ਨੂੰ ਇਸਦੇ ਉਬਾਲਣ ਵਾਲੇ ਬਿੰਦੂ (ਆਮ ਦਬਾਅ 'ਤੇ, ਇਹ 285 ਡਿਗਰੀ ਸੈਲਸੀਅਸ) 'ਤੇ ਗਲਾਈਸਰੋਲ (TEG) ਦੁਆਰਾ ਭੰਗ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।

ਅਲਟ੍ਰਾਸੋਨਿਕ ਕਲੀਨਰ: ਇਹ ਇੱਕ ਅਜਿਹਾ ਯੰਤਰ ਹੈ ਜੋ ਤਰਲ ਇਸ਼ਨਾਨ ਵਿੱਚ ਜ਼ੋਰਦਾਰ ਮਕੈਨੀਕਲ ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨਾਂ ਨੂੰ ਛੱਡਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਯੰਤਰ ਧੁਨੀ ਤਰੰਗਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਦੁਆਰਾ ਸਫਾਈ ਦੇ ਉਦੇਸ਼ਾਂ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਦਾ ਹੈ।ਧੁਨੀ ਤਰੰਗਾਂ ਤਰਲ ਇਸ਼ਨਾਨ ਦੀ ਗਤੀ ਦੁਆਰਾ cavitations ਬਣਾਉਂਦੀਆਂ ਹਨ, ਜਿਸਦੇ ਸਿੱਟੇ ਵਜੋਂ ਵਸਤੂ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਇੱਕ ਡਿਟਰਜੈਂਟ ਪ੍ਰਭਾਵ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਗੰਦਗੀ, ਦਾਣੇ ਅਤੇ ਅਸ਼ੁੱਧੀਆਂ ਨੂੰ ਢਿੱਲਾ ਕਰਨ ਅਤੇ ਖ਼ਤਮ ਕਰਨ ਲਈ 15,000 psi ਦੇ ਪੱਧਰ ਤੱਕ ਊਰਜਾ ਛੱਡਦਾ ਹੈ।